Sukses Gelar Fashion Show, Annisa Hasibuan Jadi Pembicara Di Kampus New York

FOKUSATU – Setelah sukses menggelar koleksi terbaru untuk Fall dan Winter 2017 di New York Fashion Week (NYFW) – The Shows bertemakan “Drama” yang juga mengusung pesan fashion for peace dengan menggunakan 24 model imigran yang menampilkan 48 koleksi busana muslimnya pada tanggal 14 Februari 2017 lalu, kali ini perancang mode Anniesa Hasibuan dundang untuk berbicara di kampus fashion ternama kota New York, Fashion Institut of Technology (FIT).

 Konperensi bertajuk  “International Fashion and Culture Networking Conference” ini menghadirkan tiga orang pembicara yang dianggap pempunyai pengaruh dalam perkembangan trend dan fashion saat ini. Selain Anniesa, pembicara lain adalah celebrity stylish Raquel Smith dan Meg Flather, Director of Education, Tatcha cosmetic yang juga seorang motivational speaker dan Verky Arcos, Editor Latina Magazine sebagai moderator.
Dihadiri oleh para tamu dari berbagai bidang dalam industry fashion di New York, konperensi yang berlangsung sekitar 3 jam ini menarik minat para dosen dan mahasiswa jurusan fashion di kampus yang terletak di jantung wilayah Manhattan ini. Diskusi panel berlangsung dengan santai namun tetap mendapatkan perhatian yang luar biasa.  Anniesa menceritakan bagaimana memulai proses kreatif hingga karya-karyanya diapresiasi oleh dunia fashion di New York.
IMG-20170220-WA009
“Fashion di Amerika itu sangat memberikan inspirasi, dan bagi saya untuk menjadi seorang fashion designer bukan sekedar membuat baju tapi harus ada pesan yang ingin disampaikan,” jelas Anniesa menjawab salah satu pertanyaan.
FIT adalah salah satu kampus pendidikan fashion tertua dan terbaik di Amerika. Didirikan pada tahun 1944, kampus ini sudah meluluskan ribuan mahasiswa. Beberapa nama desainer seperti Calvin Klein dan Michael Kors adalah nama alumni yang sangat terkenal di seluruh dunia. Hadirnya Anniesa dalam konperensi ini, membawa warna tersendiri dimana karya desainer busana muslim mendapatkan tempat dan perhatian dari civitas akademi kampus.
“Desain Anniesa sangat indah, unik dan elegan. Dia akan berhasil di New York, ujar Raquel Smith, fashion stylish dari penyanyi Beyoncé. Raquel sangat menyukai karya Anniesa dan ingin mengajak kliennya memakai desain rancangan Anniesa. Sedangkan Meg Flather mengatakan, “Jangan pernah meremehkan sebuah kesempatan. Selalu terima semua tawaran, karena mungkin saja kesempatan itu akan merubah hidup kita dan menjadi sukses”.
Sehari sebelumnya, Anniesa juga sempat meluncurkan koleksi gaun bridal di Indonesia Fashion Gallery (IFG) bersama dua orang desainer lndonesia lainnya, Mira Indria dan Mety Choa. “Saya melihat potensi pasar untuk gaun bridal di New York juga cukup besar. Saya masih test market dan mempelajari selera konsumen disini untuk gaun pengantin”, kata Anniesa. “Sejauh ini yang saya riset, mereka senang yang simple glamour, tidak terlalu banyak asesoris tapi lebih banyak ke detil,” lanjut Anniesa yang  berkolaborasi dengan Wardah untuk launching ini.
Menurut Carolina Septerita  direktur make up Wardah Beauty, “Pasar bridal di Amerika besar, karena setiap wanita ingin terlihat cantik dan seperti princess di hari pernikahannya”. Sedangkan Mira Indria berharap karya-karya desainer Indonesia dapat lebih dikenal di dunia internasional. “Kebetulan ada costumer kita dari beberapa negara juga selalu mencari produk-produk bridal di IFG, jadi kita launching koleksi bridal supaya banyak yang tahu”, penjelasan Teti Nurhayati, CEO Indonesia Fashion Gallery (IFG).
Konperensi di FIT ini adalah rangkaian kegiatan terakhir Anniesa Hasibuan di kota New York. “Senang sekali bisa menjadi pembicara di FIT. Ini adalah apresiasi dari industri fashion Amerika, bukan hanya pada saya tapi untuk Indonesia juga”, kata Anniesa seusai acara konperensi berlangsung. “Saya tidak sabar melihat karya Anniesa berikutnya. Karena setiap karyanya mempunyai pesan yang sangat kuat dan menarik”, kata Verky Arcos menutup diskusi panel konperensi.

Leave a Reply

Your email address will not be published. Required fields are marked *

+ 4 = 6